臭氧清洁系统

德国ANSEROS安索罗斯公司开发的HOXON表面清洁系统是半导体工业的新模范。HOXON系统是基于完全生态环保和保证人身安全的绿色科技。我们坚信并遵循着大自然的法则，调整HOXON科技以迎合表面清洁应用的需求。

我们在成功建立HOXON系统，助力于半导体工业这项事业上，拥有超过二十五年的悠久历史。只要您说出问题，我们已经为您准备了解决方案。我们欢迎您可以与我们的研发人员展开友好的探讨：我们可以为您做些什么。

应用领域

晶片清洗，UCT-工艺、无机氧化、光阻材料的去除、去离子水的消毒、原位生物膜的去除、化学气相沉积的应用、废水处理、无菌恒温区域。

完全非金属的系统；

气相臭氧容量高达270克/立方米；

液相臭氧容量高达100克/立方米；

AOP(高级氧化)清洁。

1、翁开尔公司提供仪器免费安装服务;

2、提供仪器的基本购造、功能、日常使用操作、保养与管理、常见故障的排除、紧急情况的处理等培训服务。

3、自购买之日起，提供1年保修;

4、提供产品配套说明书。